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那些因素會影響微弧氧化膜層性能? |
發布時間:2022-05-12 10:41:52| 瀏覽次數: |
微弧氧化技術相信不少了都清楚,為了更好的應用該技術,下面為大家簡單說一下那些因素會影響微弧氧化膜層性能。 一、電流密度: 1、電流密度越大,氧化膜的生長速度越快,膜厚度不斷增加,但易出現燒損現象; 佰富彩 2、隨著電流密度的增加,擊穿電壓也升高,氧化膜表面粗糙度也增加; 3、隨著電流密度的增加,氧化膜硬度增加。 二、氧化時間: 1、隨著氧化時間的增加,氧化膜厚度增加,但有極限氧化膜厚度; 2、隨著氧化時間的增加,膜表面微孔密度降低,但粗糙度變大。如果氧化時間足夠長,達到溶解與沉積的動態平衡,對膜表面有一定的平整作用,表面粗糙度反而會減小。 三、氧化電壓: 1、低壓生成的膜孔徑小、孔數多,高壓使膜孔徑大,孔數少,但成膜速度快; 2、電壓過低,成膜速度小,膜層薄,膜顏色淺,硬度也低。電壓過高,易出現膜層局部擊穿,對膜層的耐蝕性不利。 四、電源頻率: 佰富彩 1、高頻時,膜生長速率高,但厚度較薄。高頻下組織中非晶態相的比例遠遠高于低頻試樣; 佰富彩 2、高頻下孔徑小且分布均勻,整個表面比較平整、致密。低頻下微孔孔隙大而深,且試樣極易被燒損。(內容僅供參考,有問題或遇到問題請在線或來電咨詢,我們會竭誠為您服務) |